一旦BSEC光源研究所在重生者的指引下，在ArF准分子激光器专利技术的基础上，研制成功ArFi准分子激光器和浸没式光刻系统，虽然浸没式光刻系统的专利技术属于BSEC，但根据双方签订的专利技术转让协定，ArFi准分子激光器的专利技术就属于GCA！
GCA生产ArFi准分子激光器，购买BSEC的浸没式光刻系统专利技术，也能生产浸没式光刻机。
早一日研制成功8英寸晶圆、350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，制程工艺最高就能提升到250nm，凭借提高35%的生产效率，Gikon光刻机的高端市场份额，夺回全球高端光刻机市场。
峰回路转！
艾德里安、汤普森的心情比魏建国、邓国辉还急迫。
谈判和签订专利技术转让协定期间，孙健不在京城，艾德里安和魏建国都拿着他签署的代理书谈判，双方公司的律师在场监督，并在专利技术转让协定上签字证明。
专利技术转让协定符合中美法律。
巴T协定禁止8英寸晶圆和500nm制程工艺的半导体生产线出口中G，但没有禁止ArF准分子激光器出口，800nm制程工艺专利技术也不在禁令之中。
美国人知道就是中G光刻机公司耗费巨资买到了ArF准分子激光器和800nm制程工艺专利技术，也生产不出6英寸晶圆和800nm制程工艺的半导体生产线。
光刻机被称为半导体产业皇冠上的明珠，占一条半导体生产线总投资的1/3，除了光源、镜头和工作台三大核心技术之外，还需要光速矫正器、能量控制器、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台和光束形状设置，复杂程度超过大型航空发动机。
就像一般飞机制造厂买到一台顶级航空发动机，也不能生产顶级飞机。
国内光刻机半导体设备产业停滞了近十年，相关配套产业掉队太远，不是短时间用钱能买来的！
BSEC如今拿到了ArF准分子激光器和800nm制程工艺专利技术，还有独创的磁悬浮式双工作台系统，既不能生产8英寸晶圆、800nm制程工艺的光刻机，也不能生产6英寸晶圆、800nm制程工艺的半导体生产线。
BSEC还要去买先进的光学系统，进口6英寸晶圆、光刻胶、掩膜版等材料和设备，经过系统合成，就是能生产6英寸晶圆、800nm制程工艺的光刻机，只能算组装。
前世ASML生产的EUV光刻机，据说90%的零部件都是从全球5000多家公司采购的，但EUV光源（收购了Cymer）和双工作台系统等关键技术是自己的，还参股了ZeissSMTAG近三成的股权，将光刻机的三大核心技术
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